技术文章您现在的位置:首页 > 技术文章 > 关于X光机AEC 响应检测方法

关于X光机AEC 响应检测方法

更新时间:2024-07-01   点击次数:121次

AEC 响应

将一块厚 20 mm 铝板放在照射野中并覆盖设备的 AEC 电离室灵敏区域,调节照射野小于铝板的尺寸。

将剂量仪探头放置在铝板后方,并尽量靠近影像接收器的位置,注意剂量仪探头不要遮挡 AEC电离室灵敏区域。

选择全部电离室,在自动曝光条件下进行曝光(若无全自动曝光条件,则固定管电压为 80 kV,mAs 自动),记录空气比释动能值。

将 1.5 mm 厚度的铜板置于前一块铝板上,保证检测几何条件和探头位置不变。在自动曝光条件下进行曝光,记录空气比释动能值。

比较两次测量结果与平均值的相对偏差。


上一篇:没有了

下一篇:关于X光机AEC 重复性的检测方法

返回列表>>
北京伟信楚华商贸有限责任公司

北京伟信楚华商贸有限责任公司

地址:海淀区二里庄5号楼102室

© 2024 版权所有:北京伟信楚华商贸有限责任公司  备案号:京ICP备06053975号-2  总访问量:116302  站点地图  技术支持:化工仪器网  管理登陆